上海微电子28nm光刻机技术突破，绕开美国自主研发，打破技术壁垒

 美国从前年开始就针对我们的半导体领域进行了限制和打压，目的在于限制我们的制造业发展，为什么这么说呢，现在的科技越来越全面了，工业生产中业投入大量的机器人进行生产，这些工业机器人的控制都需要信息化来实现，自然芯片就成了控制这些机器人的中心。

想要制造高端的芯片就需要先进的光刻机，目前全球90%的光刻机都有荷兰阿斯麦公司垄断，只有先进的光刻机才能做出先进的芯片，目前我们的芯片设计不存在什么问题，但是芯片的制造对我们来说还是非常困难的，从今年开始，美国开始对我们的芯片供应进行限制，大量的公司已经无法从国际市场上得到想要的先进芯片了，目前国内只有中芯国际一家企业可以代工芯片，而且只能量产14nm的芯片，和目前国际先进的5nm芯片还有两代的差距。

虽然中芯国际向阿斯麦下了订单，但是由于阿斯麦和投资方的协议，对于中芯国际的订单只能无限期的向后延迟，虽然现在中芯国际每天投入自身收入的20%进行研发，但是由于中芯国际每年的收入只有台积电的十分之一，投入研发的金额虽然比例很大，但是对于光刻机的研发还是杯水车薪。而国内另一个光刻机的研发生产公司是上海微电子装备有限公司，这家公司是国家控制的，也是我国目前技术最先进的光刻机研发公司。

上海微电子之前技术最先进的光刻机是90nm，且技术一直停留在这个等级上，由于光刻机是半导体皇冠上的明珠，现在没有任何一个国家可以独立制造先进的光刻机，我国受制于多方面的技术落后，想要在短时间内自产先进的光刻机是非常不容易的。在前年，中兴与华为的事件相继爆发之后，国家开始整合力量投入到光刻机的研发之中。

在多方面的共同努力下，上海微电子公布，自己的28nm光刻机可以在明年投入量产，28nm的技术相当于国外15年前的技术，技术相对于国外还是相当的落后，但是对我们已经是非常大的进步了，即使是国外过渡到28nm也是耗费了相当大的资源。

美国对于我们半导体领域的打压，让我们加速了研发的速度，28nm的纯国产沉浸式光刻机，已经是目前国内最好的光刻机了，上海微电子在资金和人员方面均不如国外先进企业的情况下依然在研发，相比于阿斯麦，上海微电子要完了近20年成立，而且，根据瓦森纳协定，上海微电子的技术一直处于国外出口管制的技术，上海微电子是无法从国际市场过的相关技术的。

半导体产业是非常特殊的，由于是非常先进的东西，不存咋说落后一点价格便宜这种说法，所以导致只要与世界先进水平落后一点，就会导致自己的市场份额全部丧失，这样变成了一个恶性循环，失去了市场份额就失去了收入，没有钱进行研发只会变得更加落后。